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MLS LANNY法兰调节阀EFL2B40C_KFL2_LW的适用场景
更新时间:2025-09-24   点击次数:102次

    MLS LANNY法兰调节阀EFL2B40C_KFL2_LW的适用场景如下:

1. 激光切割与焊接行业

核心需求:激光切割机需精确控制辅助气体(如氧气、氮气)的压力与流量,以确保切割质量(减少毛刺、挂渣)、提升加工效率,并适配不同厚度材料(如4.5毫米喷嘴的压缩空气/氧气控制)。

EFL2B40C_KFL2_LW优势:

高精度控制:0.06级精度确保气体压力稳定,避免因压力波动导致切割缺陷。

多气体适配:支持氧气、氮气等特殊气体,密封件材质(NBR/FKM/PTFE)可防止气体泄漏,保障安全。

快速响应:模拟/数字或现场总线控制(如PROFINET、IO-Link)支持实时参数调整,适应动态加工需求。

2. PET瓶生产与包装行业

核心需求:PET拉伸吹塑机需稳定供应高压气体(如氮气)以控制瓶体成型,同时需过滤装置去除杂质,防止瓶身缺陷。

EFL2B40C_KFL2_LW优势:

高压耐受性:出口压力范围高达50bar(725 psi),满足PET行业高压供气需求。

密封可靠性:O形密封圈设计结合不锈钢材质,防止气体泄漏,延长设备寿命。

定制化支持:可配套阀门端子、过滤装置等,形成完整供气解决方案。

3. 工业气体供应系统

核心需求:需精确调节压缩空气、氧气、氮气等工业气体的压力与流量,确保生产流程稳定(如气动控制、喷涂工艺)。

EFL2B40C_KFL2_LW优势:

宽压力范围:0-25 bar调节范围覆盖多数工业场景,氮气最高输入压力达40bar,氧气达20bar。

耐腐蚀材质:阳极氧化铝、黄铜、不锈钢主体适配不同气体特性,减少腐蚀风险。

灵活控制方式:支持4-20mA模拟信号或现场总线控制,可集成到现有自动化系统(如PLC、DCS)。

4. 半导体与电子制造

核心需求:需超高纯气体供应(如NF3、NH3)及微流量控制,以满足蚀刻、清洗等工艺的精度要求。

EFL2B40C_KFL2_LW优势:

洁净等级:适配ISO 14644-1 Class 5级洁净环境,表面粗糙度Ra≤0.2μm,减少颗粒污染。

高精度调节:流量控制范围0-40 Nl/min,输出压力稳定,满足半导体工艺的严苛需求。

防结晶设计:可选特殊流道结构防止氢氧化铜等结晶堵塞,降低维护频率。

5. 化工与环保工程

核心需求:需控制腐蚀性气体(如氯气、氨气)或液体的压力与流量,同时防止泄漏与环境污染。

EFL2B40C_KFL2_LW优势:

密封件适配性:NBR、FKM、PTFE密封件可抵抗多种化学介质,确保长期密封性能。

耐压设计:PN35/N2、PN20/O2压力等级满足化工流程的高压需求。

数字化监控:IO-Link通信支持实时数据传输,便于预测性维护与泄漏预警。


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